Zaujímavosti o referátoch
Ďaľšie referáty z kategórie
Charakterizácia laserových štruktúr (ŠVOČ práca)
Dátum pridania: | 15.11.2002 | Oznámkuj: | 12345 |
Autor referátu: | mgaspar | ||
Jazyk: | Počet slov: | 1 120 | |
Referát vhodný pre: | Stredná odborná škola | Počet A4: | 4.6 |
Priemerná známka: | 2.98 | Rýchle čítanie: | 7m 40s |
Pomalé čítanie: | 11m 30s |
Prúd sa vynáša v logaritmickej mierke, aby bolo dobre rozoznať jednotlivé zložky prúdu. Ďalej bola zmeraná externá kvantová účinnosť pri izbovej teplote pomocou Ulbrichtovej integrálnej gule v závislosti od napácieho prúdu a bol vypočítaný optický výkon daných vzoriek v závislosti od prúdu (L-I harakteristiky). Napájací prúd sa menil v rozsahu 20 až 180 mA v pulze so striedou 1:20. Charakterizácia pokračovala meraním spektrálnych odoziev jednotlivých vzoriek pri izbovej teplote a pri zmene napájacieho prúdu v rozsahu 15 až 50 mA v pulze. Na spektrálnych charakteristikách je dolezitym parametrom pološírka píku emisie, ktorá sa so šírkou pásika menila len minimálne. 4. DISKUSIA
Priebeh nameranej I-V charakteristiky môžno rozdeliť na dve časti, kde v každej z nich sa prejavuje iný mechanizmus vzniku prúdu. V prvej časti pri malom priepustnom napätí prúd stúpa pomaly a prevláda tu zvodový prúd daný defektami v štruktúre. Defekty môžu byť mechanického pôvodu (štiepanie) alebo technologického (nehomogenity v štruktúre). Tento mechanizmus bude ešte treba preveriť a podľa možnosti odstrániť ho. Druhá časť charakteristiky má už typický priebeh pre prúd vznikajúci injekciou nosičov cez priechod P-N.
Namerané hodnoty externej kvantovej účinnosti sa pohybovali v rozsahu stotín percenta a následne vypočítaný optický výkon bol maximálne 100 mW pre vzorky s pásikom 5 mm. Z toho vyplýva, že tieto diódy pracujú v režime spontánnej emisie a pri izbovej teplote ich nie je možné vybudiť do režimu stimulovanej emisie. Preto ďalší postup bude meranie pri nízkych teplotách v kryostate. Z nameraných spektrálnych charakteristík možné približne určiť vlnovú dĺžku maxima emisie v okolí 1 mm. Z dostupných informácií o vzorkách sme nezistili presný obsah dusíka v aktívnej oblasti, ale z hodnoty maxima emisie je ju možné odhadnúť pomocou absorpčných spektier vrstiev GaInNAs s rôznym zložením uverejnených v referencii [3]. Vychádza to približne 1 %, čo zodpovedá predpokladom z technologických podmienok rastu štruktúr. V charakteristikách si je možné všimnúť rozdielnu strmosť hrán píkov, keď pravá hrana je menej strmá ako ľavá. V tomto mieste usudzujeme ďalšiu nežiadúcu emisiu pravdepodobne spôsobenú nehomogenitou materiálu aktívnej oblasti a jej identifikáciu bude možné vykonať meraním pri nízkych teplotách. Podstatné zlepšenie kvality nitridového materiálu aktívnej oblasti sa očakáva aj po procese žíhania, o ktorom sa v odborných kruhoch veľa diskutuje [4, 5] a je preukázaný jeho pozitívny prínos.
Zdroje: [1] Riechert, H., Egorov, A. Yu., Borchert, B., Illek, S.: InGaAsN: Extending GaAs-
based lasers to fiber optic wavelengths (Compound semiconductor 6(5) July 2000), [2] Telford, Mark: Low-cost 1.3 – 1.55 mm lasers (III-Vs Review Vol. 13 No. 6 2000), [3] Uesugi, K., Suemune, I.: Bandgap energy of GaNAs alloys grown on (001) GaAs by metalorganic molecular beam epitaxy ( Jpn. J. Appl. Phys. Vol. 36 (1997) pp. L 1572 – L 1575 Part 2. No. 12A, December 1997, [4] Kitatani, T., Nakahara, K., Kondow, M., Uomi, K., Tanaka, T.: Mechanism analysis of improved GaInNAs optical properties through thermal annealing (Journal of Crystal Growth 209 (2000) 345-349), [5] Li, L. H., Pan, Z., Zhang, W., Lin, Y. W., Zhou, Z. Q., Wu, R. H.: Effects of rapid thermal annealing on the optical properties of GaNxAs1-x/GaAs single quantum well structure grown by molecular beam epitaxy (Journal of applied physics, Vol. 87, No. 1, 1 january 2000)